Tickets
Dinsdag t/m zondag
11:00 - 17:00 uur
Contrast

Afterall 28

Afterall 28

Esche, C
Lewis, M
Roelstrate, D

Esche, C
Lewis, M
Roelstrate, D

Moulène, Jean-Luc
Basbaum, Ricardo
Perjovschi, Lia
Oiticica, Hélio
en
2011
Tijdschriften
In : Afterall : - , No. 28, 2011, 160
Located in: TIJDSCHRIFTEN; AFTERALL
VUBIS: 2:87780

Beschrijving

Tijdschrift met beschouwingen, analyses en essays over de hedendaagse kunstpraktijk, gericht op het werk van levende kunstenaars en kunstenaarscollectieven, die de grenzen van de definities over kunst en de politieke uitwerking van kunst onderzoeken. In dit nummer aandacht voor de kunstenaars Jean-Luc Moulène, Emily Wardill, Ricardo Basbaum en Lia Perjovschi